第二十章 真空镀膜(上)

作者:肥美的韭菜 加入书签推荐本书

p> 四个束源炉旁边有两个金属平台,每个平台上面都有一块金属板,大概六厘米长,三厘米宽,一厘米厚,金属板通过六角螺丝与平台连接,中间有一定的缝隙。

“学姐,这个是干什么用的?”许秋指着平台问道。

“这个是电流加热装置,将用钨丝制成的篓,放在两个平台间,用金属板压住钨篓两端,通电流对钨篓加热,可达到很高的温度,使其内部靶材气化,进行蒸镀。”陈婉清道。

许秋继续看向舱体,中间部分有一探头状的物体,像个吊灯一样悬挂在束源炉和平台的上方。

学姐顺着许秋的目光看去,主动介绍道:

“这个是晶振装置,探头处装有晶振片,用来实时检测蒸镀的薄膜厚度。它的位置一定不能乱动,因为现在的参数是已经标定过的,如果移动了它的位置,对膜厚的检测结果就不标准了。此外晶振片也是有寿命的,所以需要定期更换晶振片,并重新标定厚度。”

舱体最上面是一块大的圆形金属挡板,以及一个可以旋转的样品台。

“上面这个肯定是样品台了,为什么下面要加装一块金属挡板呢?”许秋问道。

“这块金属挡板叫做样品挡板,当他处于开启状态时,可以有效阻挡气体分子沉积在样品表面。因此,我们可以利用它,控制蒸镀的开始和结束时间,得到精确的厚度。”陈婉清道。

将舱内情况了解完毕后,许秋开始做蒸镀前的准备工作。

两批基片的器件结构不同,需要分两次进行蒸镀。

第一批是正常结构,也就是蒸镀钙和铝。

许秋首先在钨篓中装满99.995%纯度的铝锭,然后让学姐帮忙打开钙束源炉的挡板。

挡板的开关是数控的,需要在手套箱外的总控台操作。

打开挡板后,他取出束源炉内部的陶瓷坩埚,将上次使用后剩余的残渣倒出,再加入两勺新的99.995%纯度的钙粉末。

陶瓷坩埚是特质的,可以至少承受1000摄氏度以上的高温,且十分稳定,不会与靶材反应,产生杂质。

完成后,他让学姐关闭束源炉挡板。

最后,他将一片片基片正面朝下放置在样品支架上,再将样品支架放回样品台。

“学姐,没有问题吧,可以关舱门了吗。”许秋看向陈婉清。

“嗯嗯。”陈婉清点点头。

许秋将舱门从右往左推回原位,然后旋转舱门上下的两个旋钮,直至无法转动为止。

……

许秋离开手套箱,和学姐一同来到总控台,因为剩下的操作主要在总控台完成。

总控台接近两米高,由十几个模块拼接而成,一共有30多个控制按钮。

“旁边有操作说明,严格按照说明来

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