光刻胶是混合物，由树脂、溶剂、感光剂、添加剂等等混合而成的一种液体材料，这种材料对光非常敏感。
其中树脂起到了粘合的作用，把不同的材料粘合在一起，使得光刻胶具备了一定的机械性能和化学性质。
感光剂就是光活性非常强的化合物，对光非常敏感，在受到光照的时候能发生化学反应。
在光刻胶中，树脂和感光剂在其中的比例几乎是一样的。
溶剂的作用就是使得光刻胶具备了流动性。
至于添加剂使得光刻胶具备了特殊化学性质。
光刻胶应用广泛，在半导体、微机电系统、太阳能光伏等等都具有广泛的应用！
而且光刻胶的种类繁多，如果按照应用不同可以分为半导体光刻胶、pcb光刻胶、面板光刻胶等等。
要是按照曝光的波长来分呢，又可以分为紫外光刻胶，它的波长在300纳米——450纳米之间，还有深紫外光刻胶，它的波长在160纳米——280纳米之间，后边还有极紫外光刻胶，波长是13.5纳米……
后边还有电子束光刻胶、离子束光刻胶、x射线光刻胶等等。
不过总的来说，可以分为正光刻胶和负光刻胶。
正光刻胶就是原本是不可溶的液体在经过光照之后变成可溶的了。
负光刻胶正好相反，一开始是可溶的液体，在经过光照之后变成了不可溶的了。
对于光刻胶的知识在经过小芳的讲解之后，王昊天已经了然于胸了，他来到了一号车间，在那里有着一个小试管瓶。
王小芳随手丢给了王昊天：“这就是我们最新研制出来的光刻胶，效果不比倭寇国的arf光刻胶差，就算用到5nm的都没有任何问题啦。”
在这一点上，王小芳非常的有自信。
其实材料就是不断的调试以及实验，调整配方，得到性能优良的材料，得到自己最想要的，在这一点上小芳有着丰富的知识。
“我们现在研制出来的是正光刻胶，它的性能可以说是非常优良，光学性能非常好，光线照射到之后四周弥散的非常少，吸收率极大，至于光化学性能，那是感度高，很难被周围的气氛等一些外在因素影响。”
王小芳继续说道：“线路图成型的效果非常好，就算光刻胶膜较厚的情况下，分辨率也可以维持在很好的一个水平，图形边缘陡直，没有出现边缘锯齿的现象。”
“就算是膜薄的情况下也没有出现过针孔等缺陷，对于各种腐蚀剂的抗性很强，而且在经过药物处理之后不容易变质，祛除起来比较容易，不会在硅圆片上留下杂质。”
……
听着王小芳给自己介绍着光刻胶，王昊天如饥似渴地接受着这些知识：“很好，小芳你果然没有让我失望，我们要想摆脱对别人的依赖就要自