还有一位厂商，大江存储，他的首台光刻机同样来自asml，为193nm浸润式光刻机，售价7200万美元，用于14nm-20nm工艺。
看吧，其实还是有伙伴在这条路上一直努力的，在未被打压之前就在往上走。
因为事关重大，所以半导体部门的人员不仅是签署了一堆保密文件，他们的部分亲人还接受了回国的安排。
不过顾青来到部门办公研发区域，却没看到谁懈怠，又或者垂头丧气。
为自己所在的行业添上一座丰碑，为大夏半导体事业而努力，本就是他们的一个愿望。
特别是在顾青的“大力”栽培下，前途与钱途都得到了保证。
“我们都是这个行业的青壮一辈，我们都知道顾总您给出的技术是多么高瞻远瞩，光源是限制我们大夏半导体发展的关键技术。
所以都在加班加点的实验推演，仿生机械假肢项目的成功，我们都为同事为公司感到欣喜，但我们想尽早拿出成果，让整个大夏半导体不依靠外国的光源。”
李由在一旁做着解释。
虽然他知道顾青是理解他们的，但是这种事该解释还是需要解释的。
万一就被人穿小鞋，岂不是血亏？
顾青自然是理解的。
毕竟半导体这个产业，每一个项目都有专利墙保护，而光源就是命脉一般的存在，所以这群半导体人会这么如痴入魔。
“目前进度怎么样？”他问道。
李由皱了皱眉，“还不是很顺利，当初我们学的是采用248nm的krf准分子激光作为光源的第三代光刻机和采用了193nm的arf准分子激光，的第四代光刻机。
所以光源上的理论还有所生疏，而且德国那边的仪器，他们给的不是最先进的那一款，还有储存环，我们国内的不是很。”
顾青表示理解，叹了口气道：“这很正常，要达到国际先进水平不容易，但是我们还有一个研究部门正在进行改造，不论是仪器和储存环，这个月底就会给你们。
asml1公司采用的是高能脉冲激光轰击液态锡靶，形成等离子体然后产生波长13.5纳米的euv光源，功率约250瓦。
随着芯片工艺节点的不断缩小，对euv光源功率的要求也将不断提升，估计会达到千瓦量级。
而基于ss1mb的euv光源有望实现更大的平均功率，并具备向更短波长扩展的潜力，所以咱们这个ss1mb光源的前景是可以确定的。
你们别慌，前期的理论功课做好了，下个月的落地实验才会走得稳。”
李由点头笑了笑，“我知道，我们这边的研发人员每天都在生产工作完成后加班学习，咱们自己人干活，不需要看外人的表情，所以大家的动力都很足。”