爷告奶奶了，结果，屁用没有。”
陈楚默听到孟寻吐了句脏话，也是摇头失笑道，能把这么一个儒雅的中年人，逼到这份上。
看来光刻机的问题确实让其很头疼。
“孟兄，你说的对，确实不一样，我们都是华夏企业，虽然有不同的利益诉求，但是本质上是血浓于水的。
打断了筋也连着骨头的！
你说呢？”
孟寻怔了一下，没想到陈楚默
下面先别看，还在码
asml为半导体生产商提供光刻机及相关服务，twinscan系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向asml采购twinscan机型，比如英特尔（intel）、三星（samsung）、海力士（hynix）、台积电（tsmc）、中芯国际（smic）等。
asml的产品线分为pas系列、at系列、xt系列和nxt系列，其中pas系列光源为高压汞灯光源，现已停产；at系列属于老型号，多数已经停产。市场上的主力机种是xt系列以及nxt系列，为arf和krf激光光源，xt系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而nxt系列则是现在主推的高端机型，全部为沉浸式。
twinscan系列
twinscan系列
目前已经商用的最先进机型是twinscannxt1950i，属于沉浸式光刻机，用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路。
asml正在加紧研制基于极紫外（euv）光源的新型光刻机，型号定为nxe系列。如果量产成功，将成为划时代的产品，有望将关键尺寸缩小至10nm以下，并且可以显著提高集成电路质量。
除了目前致力于开发的twinscan平台外，asml还在积极与imec，ibm等半导体公司合作，开发下一代光刻技术，比如euv（极紫外线光刻），用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。目前asml已经向客户递交若干台euv机型，用于研发和实验。同时，基于传统twinscan平台的双重曝光等新兴技术，也在进一步成熟和研发过程当中。07年末三星(samsung)宣布成功生产的36纳米闪存，基于的便是双重曝光技术。
市场份额编辑
目前市场上提供量产商用的光刻机厂商有三家：asml、尼康(nikon)和佳能(canon)。根据2007年的统计数据，在中高端光刻机市场，asml占据大约60%的市场份额。而最高端市场（例如沉浸式光刻机），asml大约目前占据80%的市场份额。不过，竞争对手尼康也在奋力追赶，主要优势在于相对较低的价格。
对华合作编辑