第619章下1代光源的抉择

作者:三分糊涂 加入书签推荐本书

l完成对尼康佳能超越的关键团队,目前在苏远山手上。

“只要国产光刻机仍然在追赶,禁售就不会发生。”苏远山抿着嘴,沉默地望向远处的一栋大楼——那里便是林本坚和赵凯东的联合团队所在的实验室。

“而且我们一直都与多方的光刻机企业有技术支持和合作,这种交错的关系之下,除非德远受到了明确的针对,否则不会发生。”

梁梦松不擅长这些“大棋”,他只需要知道,苏远山说不会,那他就不用担心了。

而且德远目前也确实是尼康的友好客户,在去年wa协定签署后,国内半导体产业都风声鹤唳了许久,尼康为此还特意安排了工期……后面证明,霓国方面除了加强了检查之外,并没有干涉德远的订单。

“总之走着看,我们技术越有优势,就越有讨价还价的本钱。”说着苏远山站起身,朝着前方的实验室走去。

……

“林叔,赵叔。”

苏远山见两人同时站在门口,连忙上前握手,梁梦松也上前打了招呼。

见到跟在苏远山身后的梁梦松,林本坚倒没什么,赵凯东则是微怔了一下——此时张汝金不在,按照规矩,负责接待陪同苏远山的显然应该是德远的二把手来……

按照职位算,梁梦松只能排到德远的第五。

这架势,看来苏远山是真铁了心的要全力推制程突破了。

在接待室落座后,苏远山简单问了一下目前的进度——在光源领域,因为林本坚的加入,赵凯东团队进展得很快,他们即将完成193nm的准分子激光光源技术。

虽然比起国外同行落后了差不多一年多,但好歹算是追上了。而且就现有的技术和理论来看,193nm将会成为很长一段时间内都无法突破的光源。否则灯塔国那边也不会成立euv联盟,找寻新的出路了。

当然,对于如何跨越193nm,除了euv之外,也有其他的方案。譬如尼康和svg就在准备攻克157nm的hef2激光,以及电子束投射(epl),离子投射(ipl)、甚至x光等等……

总之,就是解决的办法一箩筐,放眼望去全是路。

但具体哪一条是真正的正道,谁也不知道。

嗯,只有苏远山一个人知道。

因为这些方案,都败给了眼前这个乐呵呵的老爷子。

“林叔,赵叔,193nm之后你们的想法是什么?”坐到沙发上,苏远山端起茶杯抿了一口。

赵凯东和林本坚对视了一眼,随后笑着道:“193nm看样子都要停留很久,你这么着急?”

“我本来是不着急的。”苏远山很坦白:“主要是老美那边搞euv,搞得我有点心慌。”

赵凯东便笑着摇了摇头:“虽然说光源要比光刻机领先很多

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