.....”
“他们是怎么做到的？”
“是啊！1975年就可以做到1微米以下曝光的光刻机，这岛国科研速度也太可怕了吧！”华夏科研人员讨论声不断。
好不容易聚集了华夏科研全力，研发出来的光刻机，如果是拎出来和眼前的这几台进行比较的话，当然是能被秒成渣渣。
闭门造车太久了，对于门外的事情是一无所知。
看来想要与国际接轨，并不是一拍脑门就能够一切顺利的事情。
加能公司在1975年就可以达到1微米以下曝光的这个事实，无异于一盆冬日里的冷水，劈头盖脸的将众人振兴华夏光刻机的希望之火，尽数浇灭。
光刻机本质其实是投影仪加照相机。
半导体器件的制造过程中，光刻机承担“曝光”的作用。