175唐芯半导体1

作者：笑笑.Jo 加入书签推荐本书

理论上193纳米步进式光刻机的极限是65纳米，只要唐芯半导体能够完成从铝制成到铜制程技术的研发，随后的90纳米和65纳米制程上，并不会出现太过复杂的难题需要他们解决。

唐笑布局浸没式光刻机，其实是冲着65纳米以下制程去的。130纳米这个节点，最难攻克的铜制程替换技术，他们也已经完成了学术方面的论证，只等工厂建成设备到位之后，就能进行量产方面的实验。